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Pioneer 120 Advanced PL-脉冲激光沉积系统

  • 产地
  • 所在地
  • 美国
  • 国外国外

更新时间:2022-05-24

有效日期:已过期

产品详情

名称:脉冲激光沉积系统
品牌:Neocera
产地:美国
型号:Pioneer 120 Advanced PLD System

Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于良好经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得良好薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得良好薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到良好的沉积条件。

技术指标

 

Pioneer240Pioneer180Pioneer120A
大wafer 直径8”6”2”
大靶材数量6 个1” 或3 个2”6 个1” 或3 个2”6 个1” 或3 个2”
压力(Torr) *5*10-85*10-95*10-9
真空室直径24”18”12”
基片加热器360°旋转360°旋转360°旋转
样品温度小于等于850 ℃850 ℃950 ℃
Turbo 泵抽速*
(liters/sec)

700

软件控制

400

件控制

260

控制

计算机控制包括包括包括
基片旋转包括选件
基片预真空室包括选件选件
扫描激光束系统包括选件-
靶预真空室包括选件-
IBAD 离子束辅助沉积选件选件选件
CCS 连续组成扩展选件-
高压RHEED
520 liters/sec 泵N/A选件-
... ...   

• 作为完整PLD 实验室解决方案供应商,我们还可提供:248nm 激光器(准分子、固体等),激光 qi体柜,激光器和光学器件      桌,以及光学器件等。
• 带* 的项目均可客户化。

应用领域

 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的*之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有*功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是一种“ 数字” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(Å/pulse)。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是研发领域广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统,也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案


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主营产品:
分子相互作用分析仪器,机器视觉仪器,表/界面分析测试仪器,界面/混凝土流变仪,薄膜沉积与表征仪器等
公司性质:
代理商

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