引言
光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机工艺是由硅片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜、检测。其中光刻机的检测尤为重要光刻胶在显影后在烘烤硬化坚膜。对刻蚀和离子注入工艺非常关键。正胶的坚膜烘培温度约为120℃到140℃。温度太高会产生光刻胶流动。因此温度对于光刻的成品率起着重要的决定性因素
光刻机曝光光学系统高精度测温模块 半导体生产涂胶机高精度测温模块产品介绍
光刻机曝光光学系统高精度测温模块是智测公司一款高精度热敏电阻测量产品,支持4线制热敏电阻测量，测量**阻值250KΩ，精度可达±0.02℃。RS485接口支持MODBUS协议，包括MODBUS RTU 和MODBUS ACSII 协议。
光刻机曝光光学系统高精度测温模块 半导体生产涂胶机高精度测温模块产品应用
光刻机曝光光学系统高精度测温模块广泛应用于电子、半导体、LED、空调,冰箱、冷柜、热水器、饮水机、暖风机、洗碗机、消毒柜、洗衣机、烘干机等家电设备上、汽车空调、水温传感器、进气温度传感器、发动机、开关电源、UPS不间断电源、变频器、电锅炉等
智能马桶,电热毯等
光刻机曝光光学系统高精度测温模块 半导体生产涂胶机高精度测温模块产品性能
●灵敏度高,响应速度快
●精度高
●具有良好的绝缘密封性和抗机械碰撞

光刻机曝光光学系统高精度测温模块 半导体生产涂胶机高精度测温模块产品优势
小巧便捷
独立电源键
支持4线制热敏电阻测量

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