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产品详情

真空等离子清洗机是通过控制由密闭腔室连接真空泵、RF电源和进气控制的装置系统产生的等离子体，通过化学或物理作用对放置在电极(正极和负极)和非电极(悬浮极)载物托盘上的工件表面进行纳米级处理，实现分子水平的多余材料和沾污去除，改善工件表面极性性能，为下步工艺做好基础的工艺过程设备。被清除的材料和沾污可能有:有机物如玻璃表面的油污、环氧基聚合物、氧化物如氧化银等、氮氧化物、光刻胶，焊料残余、金属盐等。

真空等离子清洗机产品特点：

♦射频电源功率选择为0到600W可调，频率选择为13.56MHz，同时采用电源匹配系统来调节负载阻抗，以保证的等离子密度和可重复性。
♦电极板主体由不锈钢材料制成，通过电极接头可选择的与电源正极或负极连通，电极板由两侧的绝缘块固定在真空腔体中，整个电极系统可跟据不同需求选择电极板的极性与间距，以获得最合适的等离子体。
♦供气系统采用高精度流量计来精确调节工作气体的流量，同时采用高稳定性的真空泵来实现废气的均衡排放。
♦高可靠性和稳定性、高效的功率输出、紧凑的结构设计、体积小、重量轻、完善的保护功能等特点。
♦前设开门，后方开排气孔、电源线孔，侧面开进气孔，以便于形成动态循环、均匀进气提高清洗的效果。
♦两路独立的气路控制便于探索不同气体配比对清洗效果的影响。
♦真空室材料选用材料为316不锈钢作为放电腔体，耐腐蚀性能好、耐热性强、低温情况下的强度好，冲压弯曲等热加工性好，无磁性。

真空等离子清洗机清洗原理：

等离子体中存在以下物质处于高速运动状态的电子处于激发状态的中性原子、分子、原子团自由基离子化的原子、分子分子解离反应过程中生成的辐射光线未反应的分子、原子等。而等离子体清洗正是利用等离子体内上述各种高能粒子和自由基的活化作用,将附着在基体表面的有机物、氧化物等污垢逐步活化分解,最终蒸发或脱离工件表面的过程。就反应机理来说,等离子体清洗通常包括以下过程工作气体被激发为等离子态气相激发态物质被吸附在固体表面被吸附粒子基团与固体表面污染物反应生成产物分子产物分子解析形成气相反应残余物脱离表面。

以氧气等离子体去除物体表面油脂污垢为例，等离子体对油脂污垢的作用，类似于使油脂污垢发生燃烧反应，但不同之处是在低温情况下发生的"燃烧"。其基本原理:氧气等离子体中的氧原子自由基、激发态的氧气分子、电子以及紫外线的共同作用下，油脂分子最终被氧化成水和二氧化碳分子，并从物体表面被清除。

真空等离子清洗机产品应用：

等离子清洗已应用于各种电子元件的制造，可以确信，没有等离子清洗技术，就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外，等离子清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是产品提升的关键技术。比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层、复合材料的中间层、织布或隐型镜片的表面处理、微感测器的制造，超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或的抗磨耗层等皆需等离子技术的进步，才能开发完成。

通过等离子体清洗,材料表面发生多种物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入极性基团,使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。在适宜的工艺条件下清洗材料表面,使其形态发生显著变化,并引入多种自由基团,使表面由非极性、难粘性转为有一定极性、易粘性和亲水性,有利于粘结、涂覆和印刷。

项目	型号规格	参数
等离子体发生器	功率	0-600W可调
	频率	40KHz/13.56MHz
	抗辐射干扰高频匹配器	自动抗阻匹配，远程通信控制
真空反应腔室	腔体内部尺寸	375375430（宽高深）
	腔体容积	60L
	材质	不锈钢/铝合金
	电极层数	5层
	工作托盘	标配一套，材质可选（铝丝，钢丝网）
	电极板分布方式	平板电极，可灵活抽取
控制系统	系统控制	PLC
控制系统	触摸屏	七寸触摸屏
气体系统	气体通道	标配两路可增加（氧气、氩气、氮气等）
气体系统	气体流量控制	MFC气体质量流量计
外观参数	外形尺寸	110016001000（宽高深）