技术性能指标

（1）高纯锗探测器

• 类型：宽能型高纯锗探测器
• 探测器尺寸：面积52cm^2，探测器厚度30mm
• 能量范围：3keV-3MeV
• 垂直冷指设计
• 相对效率：≥48%
• 能量分辨率：

≤1.80keV@1332keV

≤0.45keV @ 5.9keV

≤0.70keV @ 122keV

• 探测器材料采用超低本底材料制成，其中铝：99.999%纯度，U、Th 含量低于1ppb；铜：99.99%纯度；不锈钢 Co-60含量低；复合碳纤维
• 前放与探测器分离，位于超低本底铅室外部

• 2）数字化多道分析器

• 电子学类型：一体化数字电子学
• 道数：16k 道
• TCP/IP 协议通讯；内置 WEB 服务器
• 测量模式：PHA（脉冲高度分析）
• 电子学内置高压，放大器，多道等
• 增益范围 x1.6tox360
• 数字滤波器上升时间 0.4-30μ s，平顶时间 0-2.8μ s
• 积分非线性：在选择范围顶上 99％, ≤满刻度的±0.025%；微分非线性：在包括来自积分非线性影响的顶上 99％的范围上，≤±1%
• 系统增益段可选择为：16 384, 8192 , 4096, 2048, 1024 或 512 道
• 脉冲对分辨率– 对选择的NORM探测器类型，好于500 ns

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  （3）原装超低本底铅室

• 铅室类型：超低本底铅室，一体化铸造，配套环型铅塞
• 外形及开门方式：圆柱形，顶开门
• 50-2000keV 范围内的本底计数率≤1CPS
• 外层 9.5mm 厚低碳钢， 中层 15cm 厚铅（其中 12.5cm 厚低本底铅，内层2.5cm含量低于25Bq/kg 的超低本底铅）；内衬1mm厚的锡及1.6mm厚的铜
• 带有通气孔，可为测量室通入氮气，进一步降低系统本底。

• （4）谱分析及获取软件

• 采用成熟的操作分析平台
• 可进行谱获取，参数设定等功能
• 内置可编辑核素库：预制库文件包含核素大于 200 种
• 符合相加校正
• 包含能够满足软件运行要求的数据处理终端

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  （5）无源效率刻度软件

• 能对三通管、螺帽、螺栓等任何可编辑其形状的不规则样品进行效率刻度
• 提供 3D 视觉高速创建几何条件和错误识别功能
• 支持真正的无源级联符合求和校正-不需要基于源的 P/T 刻度
• 采用总效率算法，包括沉积校正
• 可以创建多个体源的复合效率
• 提供自动刻度功能
• 刻度可以像用传统技术产生的刻度一样存储、重新调出和使用
• 包括通常市场可提供的容器的库，常见吸收体材料库和创立新材料类型工具
• 提供无源效率刻度对多种体源的验证及误差分析的报告